ここでは、新イオンビームでの成膜方法について説明します。 イオンビーム発生の仕組みはイオンビームを参考にしてください。
下の模式図を参考にしながら説明します。まず下の図ですが、これはイオンビーム成膜システムを上から見たものです。ターゲットホルダーにはターゲットを最大4種類セットすることが可能になっていて、このホルダーが回転することによって、随時ターゲットを変えることができます。多層膜製作の手順は
1、シャッターを閉じた状態でイオンビームをON。
2、シャッターを開けて成膜開始。ここで、シャッターを開けると同時に時間を計測。
3、設定した時間になったらシャッターを閉じて、ビームをOFF。
4、ターゲットを回転させ、次のターゲットにする。
以上のプロセスを目的の積層数になるまで繰り返します。 |